2026深圳國際光刻膠產(chǎn)業(yè)技術(shù)展覽會
發(fā)布日期：2025/9/26 發(fā)布者：zx225188 共閱12598次
2026深圳國際光刻膠產(chǎn)業(yè)技術(shù)展覽會
PCB光刻膠展覽會 LCD光刻膠展覽會 半導(dǎo)體光刻膠展覽會
時(shí)間：2026年6月10-12日
地點(diǎn)：深圳國際會展中心
█展會背景
光刻膠是電子領(lǐng)域微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵性材料，被譽(yù)為半導(dǎo)體材料皇冠上的明珠，在半導(dǎo)體、新型顯示、印制電路板等泛半導(dǎo)體領(lǐng)域的生產(chǎn)中具有重要作用。隨著全球?qū)Π雽?dǎo)體技術(shù)依賴程度的加深，光刻膠的重要性愈加凸顯。目前我國光刻產(chǎn)業(yè)的發(fā)展面臨著諸多挑戰(zhàn)。在光刻膠領(lǐng)域，國內(nèi)高端光刻膠自給率低，研發(fā)和生產(chǎn)技術(shù)與國際先進(jìn)水平有差距，產(chǎn)品性能和質(zhì)量難以滿足高端芯片制造需求。濕電子化學(xué)品方面，部分高純度、特殊配方產(chǎn)品依賴進(jìn)口，供應(yīng)受限。掩模版的高精度制造技術(shù)難度大，高端掩模版原料主要依賴進(jìn)口，供應(yīng)受制于人，其快速修復(fù)和更新技術(shù)有待提升。光刻機(jī)更是被國外壟斷，高端光刻機(jī)如EUV光刻機(jī)難以獲得，國內(nèi)光刻機(jī)企業(yè)在技術(shù)水平、制造精度、光源系統(tǒng)等方面與國際先進(jìn)水平存在較大差距，成為制約我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的“卡脖子”環(huán)節(jié)。
為推動國內(nèi)高端光刻膠技術(shù)創(chuàng)新，加快核心技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用，同時(shí)加強(qiáng)下游需求應(yīng)用與科研、產(chǎn)業(yè)企業(yè)的協(xié)同研發(fā)、技術(shù)交流。2026深圳國際光刻膠產(chǎn)業(yè)技術(shù)展覽會將圍繞集成電路、新型顯示、PCB領(lǐng)域高性能光刻膠以及光刻膠專用樹脂、光引發(fā)劑、顏料等原料技術(shù)與設(shè)備全方面展示和產(chǎn)學(xué)研用技術(shù)交流。是國內(nèi)最主要的光刻膠領(lǐng)域行業(yè)盛會，一年一屆。大會已成為推動國內(nèi)高端光刻膠技術(shù)創(chuàng)新、加快核心技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用、加強(qiáng)產(chǎn)學(xué)研用深度融合的重要平臺，在行業(yè)產(chǎn)生了廣泛的影響力。
█日程安排：
報(bào)到布展：2026年6月8-9日 展出時(shí)間: 2026年6月10-12日
█頂級盛會（大會設(shè)贊助、協(xié)辦單位，詳情請致電組委會）
品牌展示 高層論壇 行業(yè)用戶洽談會 外商采購會 新技術(shù)新產(chǎn)品發(fā)布會
“搭建國際采購貿(mào)易平臺、促進(jìn)企業(yè)交流合作、提高參展效果”
————將是我們的目標(biāo)！
? 匯集最新的銷售訊息，結(jié)識來自國內(nèi)和國際的高質(zhì)量買家群；
? 了解未來的產(chǎn)品需求，獲得最新的市場發(fā)展訊息；
? 通過行業(yè)分工合作以及產(chǎn)業(yè)鏈需求尋求新的商業(yè)機(jī)會；
? 發(fā)布新技術(shù)、展示新產(chǎn)品的絕佳平臺，獲得市場推廣及品牌建設(shè)良機(jī)，提高行業(yè)認(rèn)知度；
? 參加相關(guān)的論壇活動，獲悉行業(yè)發(fā)展趨勢、技術(shù)創(chuàng)新的最新資訊。
█展品范圍：
PCB光刻膠、LCD光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠。PCB（干膜光刻膠、濕膜光刻膠以及光成像阻焊油墨）；LCD（彩色光刻膠、黑色光刻膠、觸摸屏光刻膠以及TFT-LCD光刻膠）；半導(dǎo)體（紫外光刻膠、深紫外光刻膠、極紫外光刻膠、電子束光刻膠、離子束光刻膠以及X射線光刻膠）等；
光刻材料： SOC、BARC/SiARC、光刻膠、TARC、Top Coating、稀釋劑、沖洗液、顯影液等；
光刻膠原材料（光引發(fā)劑/感光劑、樹脂、單體、溶劑、添加劑）等；
光刻膠專用試劑：稀釋劑/去邊劑、成膜劑、光敏劑、溶劑和添加劑、顯影液和剝離液等；
光刻技術(shù)、光刻膠與濕電子化學(xué)品、納米壓印、特種氣體、掩膜版與光刻材料與設(shè)備等；
設(shè)備：合成、純化、混合、過濾、光刻機(jī)、涂膠顯影設(shè)備以及后續(xù)的刻蝕、量測等設(shè)備；
█展會優(yōu)勢：
發(fā)布年度新品——百余家媒體競相直播報(bào)道，是企業(yè)發(fā)布年度新品的重要渠道
了解行業(yè)趨勢——作為行業(yè)“風(fēng)向標(biāo)”及“晴雨表”，第一時(shí)間展現(xiàn)市場動向及趨勢
維系重要客戶——這是業(yè)內(nèi)人士都不會錯(cuò)過的盛會，也是您會面維系老客戶，接待新客戶的好機(jī)會
參展、參觀詳情咨詢：
咨詢熱線：021-34513031
聯(lián)系人:錢先生13162771109
郵 箱：baoliexpo@126.com
http://www.szgyqx.com
PCB光刻膠展覽會 LCD光刻膠展覽會 半導(dǎo)體光刻膠展覽會
時(shí)間：2026年6月10-12日
地點(diǎn)：深圳國際會展中心
█展會背景
光刻膠是電子領(lǐng)域微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵性材料，被譽(yù)為半導(dǎo)體材料皇冠上的明珠，在半導(dǎo)體、新型顯示、印制電路板等泛半導(dǎo)體領(lǐng)域的生產(chǎn)中具有重要作用。隨著全球?qū)Π雽?dǎo)體技術(shù)依賴程度的加深，光刻膠的重要性愈加凸顯。目前我國光刻產(chǎn)業(yè)的發(fā)展面臨著諸多挑戰(zhàn)。在光刻膠領(lǐng)域，國內(nèi)高端光刻膠自給率低，研發(fā)和生產(chǎn)技術(shù)與國際先進(jìn)水平有差距，產(chǎn)品性能和質(zhì)量難以滿足高端芯片制造需求。濕電子化學(xué)品方面，部分高純度、特殊配方產(chǎn)品依賴進(jìn)口，供應(yīng)受限。掩模版的高精度制造技術(shù)難度大，高端掩模版原料主要依賴進(jìn)口，供應(yīng)受制于人，其快速修復(fù)和更新技術(shù)有待提升。光刻機(jī)更是被國外壟斷，高端光刻機(jī)如EUV光刻機(jī)難以獲得，國內(nèi)光刻機(jī)企業(yè)在技術(shù)水平、制造精度、光源系統(tǒng)等方面與國際先進(jìn)水平存在較大差距，成為制約我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的“卡脖子”環(huán)節(jié)。
為推動國內(nèi)高端光刻膠技術(shù)創(chuàng)新，加快核心技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用，同時(shí)加強(qiáng)下游需求應(yīng)用與科研、產(chǎn)業(yè)企業(yè)的協(xié)同研發(fā)、技術(shù)交流。2026深圳國際光刻膠產(chǎn)業(yè)技術(shù)展覽會將圍繞集成電路、新型顯示、PCB領(lǐng)域高性能光刻膠以及光刻膠專用樹脂、光引發(fā)劑、顏料等原料技術(shù)與設(shè)備全方面展示和產(chǎn)學(xué)研用技術(shù)交流。是國內(nèi)最主要的光刻膠領(lǐng)域行業(yè)盛會，一年一屆。大會已成為推動國內(nèi)高端光刻膠技術(shù)創(chuàng)新、加快核心技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用、加強(qiáng)產(chǎn)學(xué)研用深度融合的重要平臺，在行業(yè)產(chǎn)生了廣泛的影響力。
█日程安排：
報(bào)到布展：2026年6月8-9日 展出時(shí)間: 2026年6月10-12日
█頂級盛會（大會設(shè)贊助、協(xié)辦單位，詳情請致電組委會）
品牌展示 高層論壇 行業(yè)用戶洽談會 外商采購會 新技術(shù)新產(chǎn)品發(fā)布會
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? 匯集最新的銷售訊息，結(jié)識來自國內(nèi)和國際的高質(zhì)量買家群；
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? 參加相關(guān)的論壇活動，獲悉行業(yè)發(fā)展趨勢、技術(shù)創(chuàng)新的最新資訊。
█展品范圍：
PCB光刻膠、LCD光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠。PCB（干膜光刻膠、濕膜光刻膠以及光成像阻焊油墨）；LCD（彩色光刻膠、黑色光刻膠、觸摸屏光刻膠以及TFT-LCD光刻膠）；半導(dǎo)體（紫外光刻膠、深紫外光刻膠、極紫外光刻膠、電子束光刻膠、離子束光刻膠以及X射線光刻膠）等；
光刻材料： SOC、BARC/SiARC、光刻膠、TARC、Top Coating、稀釋劑、沖洗液、顯影液等；
光刻膠原材料（光引發(fā)劑/感光劑、樹脂、單體、溶劑、添加劑）等；
光刻膠專用試劑：稀釋劑/去邊劑、成膜劑、光敏劑、溶劑和添加劑、顯影液和剝離液等；
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